SK하이닉스의 반도체 핵심 기술과 삼성전자 자회사 세메스의 세정장비 도면 등을 중국 기업에 유출한 혐의로 기소된 협력사 임직원들에 대해 대법원이 유죄를 확정했다.
대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 협력사 부사장 A씨 및 소속 임직원 5명에 대한 상고심에서 검사와 피고인 측의 상고를 모두 기각하고 원심 판결을 확정했다.
이들은 SK하이닉스와 협력하며 확보한 세정공정 양산 레시피, 반도체 세정장비 사양, HKMG 공정 기술 등 핵심기술을 2018년경부터 중국 경쟁업체에 넘긴 혐의를 받는다. HKMG(High-k Metal Gate) 공정은 D램 반도체의 속도와 전력 효율을 높이는 차세대 기술로, 업계에선 기술 유출 시 수년간 쌓아온 기술격차가 단기간에 무너질 수 있다는 우려가 제기돼 왔다.
이와 별도로 삼성전자 자회사 세메스의 전직 직원을 통해 초임계 세정장비 도면과 관련 기술정보를 빼낸 뒤, 이를 자사 제품 개발에 활용하려 한 시도도 함께 기소 대상이 됐다.
1·2심은 이같은 행위 중 일부에 대해 산업기술 국외누설 및 영업비밀 침해를 인정해, 회사 측에는 벌금형, 임직원들에게는 실형 또는 집행유예를 각각 선고했다. 당시 재판부는 “피해 기업뿐 아니라 국내 반도체 산업 전체에 심각한 영향을 줄 수 있는 행위”라며 엄중한 책임을 물었다. 대법원도 이날 원심 판결을 그대로 확정했다.
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