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[2003 하반기 벤처 공동투자설명회 지상IR] ㈜에스이플라즈마
입력2003-12-08 00:00:00
수정
2003.12.08 00:00:00
㈜에스이플라즈마(대표 이상로)는 지난 2001년 4월 설립된 자본금 5억원의 신생 벤처기업이다.
대기압 저온 플라즈마 기술을 표면처리분야에 접목시켜 독창적인 대기압 플라즈마 장치를 개발해 기존의 UV나 진공 표면처리장치의 대체는 물론 금속, 세라믹, 폴리머 등 모든 소재 표면 처리 분야에 응용범위를 확대하고 있는 전문기업이다.
이미 전 세계적으로 대기압 플라즈마와 관련한 각종 특허를 보유하고 있으며, 이런 기술력을 인정받아 중소기업청으로부터 지난 2001년에는 벤처기업으로 인증을 받았고 2002년 상반기에는 이노비즈 기업으로 선정됐다.
㈜에스이플라즈마의 사업기본 방향은 FPD 분야의 진공공정 및 습식공정을 대기압 플라즈마 공정으로 대체해 접합ㆍ페인팅ㆍ인쇄 등의 습식 전처리 공정 대체, 평면조명 기술의 사업화, LCD 백라이트제품 등으로 집약될 수 있다.
현재 주력분야중 하나인 LCD 제조공정용 세정장치는 시장진입에 성공하여 양산 준비단계에 있으며, 또 폴리머 전처리용 장치도 시장진입을 눈앞에 두고 있다.
이 회사의 기술적 장점은 세계 최초의 독창적인 플라즈마 전극 구조와 검증된 전원을 사용하여 높은 효율로 적정한 플라즈마 밀도를 실현했다는데 있다.
특히 대면적 LCD용 세정장치는 종래의 대기압 플라즈마 기술의 문제점인 불균일성 및 표면손상 등을 완전히 해결한 새로운 개념의 장비로서 이미 기술 검증을 완료하고 세계 최초로 LCD 생산공정에 채택됐다.
이에 따라 내년에는 64억원, 2005년에는 203억원의 매출을 목표로 하고 있다. 031)420-4777
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