에스엔에스텍, 포토마스트 원자재 첫 개발

그 동안 일본에서 전량 수입되던 반도체 재료인 포토마스크 원자재가 국내에선 처음으로, 세계에서는 네번째로 개발됐다.4일 에스엔에스텍(대표 남기수)은 포토마스크 생산에 필요한 원자재인 블랭크 마스크(Blank Maskㆍ사진)를 국산화하고 최근 본격 양산에 돌입했다.

블랭크 마스크란 포토마스크에 설계도면이 그려지기 전 상태의 원판으로 석영유리 기판 위에 크롬막, 또는 크롬산화막 등의 금속박막 필름을 형성하고 그 위에 감광액을 도포한 것이다.

현재 일본의 호야(HOYA)와 울코트(Ulcoat) 2개 업체와 독일의 한 업체에서만 생산하고 있으며 국내에서는 이 제품을 일본에서 전량 수입해왔다.

에스엔에스텍은 이 제품의 양산을 위해 대구 성서공단에 공장을 준공, 연간 6인치 기준 최대 4만~5만장까지 생산할 수 있는 라인을 구축한 상태며 내년에는 연간 10만장까지 물량을 확대할 수 있는 증설 계획도 추진중이다.

현재 매출액은 6억원에 불과하지만 본궤도에 올라가는 내년에는 약 200억에서 250억원까지 늘어날 것으로 기대하고 있다.

이 회사에서 생산하고 있는 블랭크 마스크의 가격은 대략 장당 60만원 정도. 외국제품과 비교했을 때 원가면에서는 비슷하지만 수송비, 관세 등을 고려할 때 10% 정도의 경쟁력을 갖는다는 게 회사측 설명이다.

현재 포토마스크 업체인 PKL로부터 품질인증을 받고 지난 24일부터 납품을 하고 있으며 삼성, 하이닉스, 듀퐁 등에도 납품을 위한 품질인증 절차를 추진중이다.

남 사장은 "앞으로 국내 뿐만 아니라 중국, 대만 등 해외시장 진출도 적극 추진할 것"이라고 밝히고 "TFT-LCD용과 위상변이 제품 등 고부가 제품에 대한 개발도 이미 끝낸 상태"라고 부연했다.

송영규기자