|
산업자원부 등 정부의 5개 부처가 각각 따로 운영 중인 7가지의 신기술 인증제도가 2가지로 통합된다. 또 첨단기술의 수명이 갈수록 짧아지는 추세에 맞춰 발명품 등 특허심사 대기시간이 현재 22개월에서 오는 2006년에는 10개월로 단축된다. 정부는 25일 서울 소공동 롯데호텔에서 오명 부총리 겸 과학기술부 장관 주재로 제1회 과학기술관계 장관회의를 열고 이 같은 내용의 ‘신기술인증제도 개선방안’과 ‘특허심사 기간 개선방안’을 심의, 확정했다. 정부는 현재 정부에서 운영 중인 KTㆍNTㆍEMㆍET 등 7종의 신기술 인증제도를 통합해 기술에 대한 인증은 ‘신기술(NET)마크’, 제품에 대한 인증은 ‘신제품(NEP)마크’ 등 2종으로 운영하기로 했다. 인증 담당부처로는 NET의 경우 과기부ㆍ건설교통부ㆍ환경부가, NEP는 산자부ㆍ정보통신부가 되며 공통의 평가기준 및 운영요령을 마련, 2006년부터 적용하기로 했다. 신기술인증의 활용도를 높이기 위해 신기술 인증제도의 운영과 심사ㆍ사후관리 등의 과정을 데이터베이스(DB)화한 통합전산시스템도 구축하기로 했다. 이날 회의에서는 또 특허심사 대기시간을 현행 22.1개월에서 2006년까지 10개월로, 특허심판 처리기간도 현행 14개월에서 6개월로 각각 단축하기로 했다. 특허청은 특허심사 업무의 아웃소싱 확대, 특허심판조직의 조직ㆍ인력재편 등 자구노력을 강화하는 한편 내년까지 특허심사인력 220명을 증원하기로 했다. 한편 이번 과학기술관계 장관회의는 과기부가 부총리 부처로 승격된 후 처음 열린 회의다. 이날은 이희범 산자부, 진대제 정통부 등 10개 부처 장관이 직접 참석했으며 부총리 부처인 재경부와 교육부는 관례상 차관이 참석했다. 한덕수 국무조정실장, 김영주 청와대 정책기획수석 등도 위원으로 참석했다. 오 부총리는 “미시적 경제정책과 관련, 문제의식을 공유하고 과기관계 장관회의가 활성화될 수 있도록 도와달라”고 당부한 후 “향후 매달 넷째주 목요일 오전7시30분에 정례적으로 개최하는 것이 어떠냐”고 제의, 만장일치 찬성을 이끌어냈다.
< 저작권자 ⓒ 서울경제, 무단 전재 및 재배포 금지 >
