중국 반도체 업체에 삼성전자의 핵심 기술을 넘긴 혐의로 기소된 전직 부장이 항소심에서 감형받았다.
23일 법조계에 따르면 서울고법 형사8부(재판장 김성수)는 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 재판에 넘겨진 A씨에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다. 1심에서는 징역 7년과 벌금 2억원이 선고됐었다.
공범 3명에 대한 형량은 징역형 집행유예부터 징역 2년 6개월까지 모두 1심 판단과 동일하게 유지됐다.
재판부는 공범 3명에 대해 “국가 경쟁력에 악영향을 줄 수 있는 중대범죄”라며 “피고인들이 항소심에서 범죄를 인정하고 반성하지만 이런 사정만으로 원심의 양형을 바꾸기는 어렵다”고 밝혔다.
다만 A씨에 대해서는 “피해 회복이 이뤄지지 않아 엄한 처벌이 불가피하다”면서도 “다니던 회사에 해고된 이후 재취업이 어렵게 되자 중국에 취업해 이 사건 범행까지 이뤄진 것으로 보이고, 삼성전자 핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다”고 판시했다.
A씨 등은 중국 반도체 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 회사를 옮긴 뒤 삼성전자의 D램 공정 국가핵심기술을 부정하게 취득·사용하고 수백억 원의 대가를 받은 혐의를 받았다.
검찰은 해당 기술 유출로 발생한 삼성전자의 2024년 매출 손실이 수조원에 이르는 것으로 추정했다.
앞서 지난 2월 1심 재판부는 “피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄”라며 “삼성전자의 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상할 수 있다”고 지적한 바 있다.
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