전력 90% 덜 쓰고 첨단 반도체 만든다

ASML 아성 도전장…EUV 대비 비용 절감

2027년 상용화 목표, 실용성 입증 과제로

일본 DNP가 개발한 1.4나노 반도체용 템플릿/DNP

일본 기업이 기존 대비 소비전력 10분의 1로 첨단 반도체를 생산할 수 있는 기술을 개발하고 2027년 상용화에 나선다.

9일 니혼게이자이신문에 따르면 대일본인쇄(DNP)는 캐논의 차세대 반도체 제조 장비인 ‘나노임프린트’에 탑재할 1.4㎚(나노미터·10억분의 1m)급 미세 회로 원판(템플릿) 개발에 성공했다.



현재 최첨단 반도체 생산은 네덜란드 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비가 독점하고 있다. 공정이 복잡해 전력 소모가 크고 대당 가격도 300억 엔(약 2800억 원)에 달한다. 반면 DNP와 캐논이 추진하는 나노임프린트 방식은 도장처럼 웨이퍼에 회로를 눌러 찍어낸다. EUV 대비 전력 소비를 획기적으로 줄일 수 있을 뿐 아니라 비용도 상대적으로 저렴해 제조 원가를 낮출 수 있다. 각각 2027년과 2028년 1.4나노 양산을 목표로 하는 삼성전자와 TSMC도 나노임프린트 방식에 관심을 보이고 있는 것으로 알려졌다고 닛케이는 전했다.

다만 해결해야 할 과제도 있다. 나노임프린트 방식은 템플릿이 웨이퍼와 직접 접촉하기 때문에 불순물에 의한 결함이 발생하기 쉽고 처리 속도를 높여야 하는 기술적 난관이 있다. 닛케이는 “기존 반도체 공장이 노광장비 도입을 전제로 설계된 만큼 나노임프린트가 채택되려면 공장 신설 시 높은 경제성과 실용성을 입증해야 할 것”이라고 지적했다.