대법, SK하이닉스 반도체 기술 유출 협력사 부사장 최종 선고

산업기술 국외누설 혐의

항소심서 징역 1년 6개월로 가중

사진=이미지투데이

대법원이 11일 SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 혐의로 기소된 협력사 부사장 A씨에 대한 최종 판결을 내린다.
대법원 1부는 이날 오전 10시 10분 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 A씨 등에게 내려진 2심 판결의 확정 여부를 판단한다.

앞서 2심 재판부인 서울고법 형사7부(이재권 송미경 김슬기 부장판사)는 지난 5월 18일 A씨에게 징역 1년 6개월의 실형을 선고했다. 이는 징역 1년을 선고한 1심보다 형이 무거워진 것이다. 함께 기소된 연구소장 등 임직원 3명도 1심의 집행유예에서 모두 실형(징역 1년∼1년 6개월)으로 형이 상향됐으며, 협력사 법인에는 벌금 10억 원이 선고됐다.



2심은 이들이 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 경쟁 업체에 넘긴 점을 유죄로 판단했다. 1심은 해당 기술이 양측의 공동 소유로 대외 발표만 금지된다고 봤지만, 항소심은 "기술을 경쟁사에 제공하려면 SK하이닉스의 사전 동의가 필요하다"며 "비밀유지 대상인 산업기술에 해당한다"고 지적했다.

A씨 등은 2018년부터 SK하이닉스와의 협업 과정에서 알게 된 HKMG 공정 기술과 세정 레시피 등 핵심 반도체 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소됐다. HKMG는 D램의 속도를 높이면서 소비 전력을 줄이는 차세대 반도체 제조기술이다.

또한 이들은 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원을 통해 초임계 세정장비 도면 등 첨단 장비 기술을 몰래 취득한 뒤, 이를 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받는다.